反应离子束刻蚀（SAMCO RIE-10NR）启用通知
各位用户大家好!
微纳加工实验室新购置的反应离子束刻蚀（SAMCO RIE-10NR）经过调试已具备对外开放条件，首次培训预计在10月下旬，欢迎报名参加培训。本设备目前只允许刻蚀Si、SiO2、Si3N4和光刻胶材料，不接受金属掩膜样品和高污染样品的刻蚀。
设备名称：反应离子束刻蚀
设备型号：RIE-10NR
厂 家：SAMCO
设备分类：干法刻蚀
设备功能介绍
用于介质薄膜的干法刻蚀，包括SiO2、Si3N4、Si、光刻胶等。
设备性能指标
1、刻蚀尺寸：8英寸及以下；
2、操作方式：自动化操作；
3、射频电源：13.56MHz，300W；
4、均匀性与重复性：≤5%；
5、气体种类：SF6、CHF3、CF4、O2、Ar。
设备放置房间
江湾校区物理楼N407，微纳加工实验室刻蚀Ⅰ区。
设备预约方式
微纳加工实验室网站：nanofab.fudan.edu.cn。
工程师联系方式
徐老师： 021-31243290
xuhongtao@fudan.edu.cn
设备报名培训方式
在微纳预约网站上找到该设备，点击“申请参加培训”并提交纸质版《设备培训报名表》。