用户指南

复旦大学微纳加工服务收费标准(2024版)

设备名称

收费标准(/小时)

备注

实验室使用和安全培训

50//

 

进洁净间

30/

含常规小型设备使用实验和洁净室耗材费用

设备工艺集中培训

300//

 

紫外光刻(Karl Suss MA6)

600

光刻版自备或支付相应材料费

制版机(Heidelberg mPG 501)

600

钨灯丝电镜+能谱仪

(Zeiss EVO10 + EDX)

200

 

场发射电镜+电子束曝光

(Zeiss Sigma + Raith Elphy plus)

800

 

聚焦离子束(双束)显微镜(Auriga)

1200

仅委托加工

电子束蒸发镀膜
(Kurt Lesker LAB18)

800

100/10nm (贵重金属)

磁控溅射(DE500)

1000

100/10nm (贵重金属)

原子层沉积(Sunale R-200

30

4/nm

快速退火炉

400

 

临界点干燥仪

200

 

热蒸发镀膜

(Kurt Lesker Nano36)

600

100/10nm (贵重金属)

台阶仪(Bruker DektakXT)

300

 

引线压焊机(West bond)

200

 

纳米压印(Entire3

300

 

探针台/4200参数测试仪

200

 

感应耦合等离子刻蚀

(Oxford ICP-RIE)

600

 

等离子增强沉积(PECVD)

700

 

反应离子刻蚀T2 (RIET2)

600

 

HMDS烘箱(HMDS)

400

 

离子束刻蚀系统(IBE)

500

 

激光共聚焦显微拉曼光谱仪
(Raman)

500

 

椭圆偏振光谱仪(SE)

500

 

原子力显微镜(AFM 

400

50(cont, tap), 100(EFM,MFM), 150(CAFM,SCM,NANOLITH),针尖根据购买针尖合同价格收费

微波去胶机

300

 

水滴角测试仪

300

 

真空沉积(Parylene

40

 

电子束蒸发镀膜DE400

800

 

场发射电镜Sigma300

800

 

图形加工刻蚀系统

400

 

电子束曝光系统(JBX-8100FS

2400

500/ml(ZEP)

磁控溅射镀膜PVD75

1000

100/10nm (贵重金属)

反应离子刻蚀RIE-10NR

600

 

无掩膜紫外光刻机

600

 

双光子三维光刻系统

1800

 

XeF2刻蚀机

1200

 

喷金仪

600

 

四楼EBL匀胶机

50

 

紫外光刻匀胶机

50

 

小型设备培训(膜厚仪、划片、紫外臭氧、天平、热版、国产甩胶、真空烘箱)

100

 

说明:

1、 本收费标准中涉及的大型仪器机时费均为用户自行操作;如需委托工程师操作,则收费标准上浮50%,且无法保证实际完成时间。