本次讲座，我们荣幸邀请到科特莱思科的亚洲技术经理胡爱宾先生，为大家系统剖析磁控溅射技术的核心与应用。

【讲座核心内容】

原理探秘：深入浅出，解读磁控溅射的基本原理。

工艺核心：介绍膜厚均匀性与沉积速率的计算方法。

设备详解：全面了解各类磁控溅射电源的特点。

问题攻克：直击痛点，分析磁控溅射的优缺点及常规磁控溅射问题。

【讲座信息】

时间：11月27日 14:30 - 16:30

地点：复旦大学江湾校区 物理楼C101室

主讲人：胡爱宾 亚洲技术经理

主办：复旦大学微纳加工与器件公共实验室

协办：科特莱思科（上海）商贸有限公司

欢迎复旦大学及所有对此领域感兴趣的师生扫码海报中的二维码报名参加！