[ 基础信息 ]
生产国家 :
制造厂商 :
购置日期 : 2022-11-24
规格型号 : MA6
[ 分类信息 ]
设备类型 : 图形加工, 紫外光刻
设备编号 : FNF005
[ 联系信息 ]
联系人 : 王恒亮
存放地址 : 物理楼光刻区
联系电话 : 021-31243290
联系邮箱 : whengliang@fudan.edu.cn
[ 附加信息 ]
主要功能及特色 :
采用紫外光源,实现光刻胶的曝光,将光刻版上的图形转移到光刻胶上,在光刻胶上制作出亚微米(>0.8um)图形结构。紫外光刻系统是目前实验室光刻技术中最为常用和重要的光刻设备。
主要规格及技术指标 :
光源波长:365nm——436nm。
最小线宽:0.8um。
套准精度:±0.5um
最小曝光时间:0.1s
晶圆尺寸:碎片(如1cm、2cm等小尺寸)、2-4英寸。
曝光模式:硬接触模式、真空接触模式、低真空接触模式、软接触模式、接近式接触模式。
对准模式:正面对准和背面对准。
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[ 开放机时安排 ]
无
[ 参考收费标准 ]