高性能离子束刻蚀系统（倾斜刻蚀机）
[ 基础信息 ]
生产国家 :
制造厂商 :
购置日期 : 2025-11-20
规格型号 : Ionfab
[ 分类信息 ]
设备类型 : 干法刻蚀, 离子束刻蚀
设备编号 :
[ 联系信息 ]
联系人 : 南泽圆
存放地址 : 物理楼微纳加工与器件公共实验室N407刻蚀2区
联系电话 :
联系邮箱 : zeyuannan@fudan.edu.cn
[ 附加信息 ]
主要附件及配置 :
液氦背冷控温，预真空室快速真空
主要功能及特色 :
超硬材料（LNO/SIC/SIO2）及任何金属的垂直倾斜刻蚀；具备高选择比，高刻蚀速率、低损伤；
倾斜结构光栅、闪耀光栅等表面浮雕工艺；
惰性金属Flag切削工艺;
底切工艺
高精度纳米尺度加工能力
主要规格及技术指标 :
该设备为离子束刻蚀系统；
最大支持8inc晶圆；
配备SF6/CHF3/CF4/O2等反应性气体
样品台可240°旋转和自转
