双光子三维光刻系统

[ 基础信息 ]
生产国家 : 德国
制造厂商 : Nanoscribe
购置日期 : 2024-04-09
规格型号 : Quantum X shape
[ 分类信息 ]
设备类型 : 图形加工
设备编号 :
[ 联系信息 ]
联系人 : 王恒亮
存放地址 :
联系电话 : 021-31243290
联系邮箱 : whengliang@fudan.edu.cn
[ 附加信息 ]
主要附件及配置 :

主要功能及特色 :

可以完成2.5D和3D形状的亚微米级别的细节精度和形状精度快速手板定制,甚至是晶圆级批量生产。该系统配备双光子灰度光刻技术(2GL), 可用于制造具有光学表面质量的2.5D结构或3D结构。

主要规格及技术指标 :

1, 激光器的中心波长780 nm。
2, 激光器的平均激光功率 250 mW。
3, 配备有双光子灰度光刻技术,光斑调节速率高达1MHz。
4, 加工结构的表面粗糙度可达Ra≤ 5 nm。
5, 加工结构的细节精度可达100 nm。
6, 加工结构的形状精度达到或者优于200 nm。
7, 加工样品时自动界面找寻精度最高可达30 nm。
8, 适用不同的样品衬底如一般显微镜用衬底 (3” x 1” / 76 mm x 26 mm),晶圆 (1” to 6” / 25.4 mm to 150 mm)等等。适用材质须包括但不仅限于玻璃, 硅片, 透明或不透明衬底均适用。



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[ 开放机时安排 ]
[ 参考收费标准 ]