电子束曝光系统
[ 基础信息 ]
生产国家 : 日本
制造厂商 : JEOL
购置日期 : 2017-12-15
规格型号 : JBX-8100FS
[ 分类信息 ]
设备类型 : 图形加工, 电子束曝光
设备编号 :
[ 联系信息 ]
联系人 : 徐红涛
存放地址 : 物理楼B003
联系电话 : 31243290
联系邮箱 : nanofab@fudan.edu.cn
[ 附加信息 ]
主要附件及配置 :
12枚板架，可写曝光6寸的mask，最大装样8英寸wafer，预对准系统和Genisys图形处理软件。
主要功能及特色 :
电子束曝光技术就是利用电子束的扫描将聚合物加工成精细掩膜图形的工艺技术。
主要规格及技术指标 :
加速电压：100KV
最大扫描频率：125MHz
最大束流：200nA
最小束斑：2nm
最小线宽：8nm
最大写场：4thLens1000um*1000um
最大样品尺寸：8英寸晶圆及以下
