热蒸发镀膜
[ 基础信息 ]
生产国家 :
制造厂商 :
购置日期 : 2020-10-30
规格型号 : Nano36
[ 分类信息 ]
设备类型 : 薄膜沉积, 热蒸发
设备编号 : H1304823
[ 联系信息 ]
联系人 : 朱丽萍
存放地址 : 沉积Ⅱ区
联系电话 :
联系邮箱 :
[ 附加信息 ]
主要附件及配置 :
无
主要功能及特色 :
在高真空下，采用电阻式蒸发原理，利用大电流在蒸发舟上加热所蒸镀材料，使其在高温下熔化蒸发，从而在样品上沉积所需要的薄膜。通过调节所加电流的大小，可以方便的控制镀膜材料的蒸发速率。通常适合熔点低于1500oC的金属薄膜的制备。
主要规格及技术指标 :
可在高真空下蒸发高质量的不同厚度的金属薄膜，广泛应用于物理，生物，化学，材料，电子等领域。
蒸镀薄膜种类：Au, Cr, Ag, Al, Cu, In等
极限真空：2E-7 Torr（ 30分钟从 atm 抽到 5E-6 Torr ）
薄膜均匀性：±4% （ 4英寸 ）
装片：小于4英寸的任意规格的样品若干
样品台：带连续旋转，转速 0-20 rpm。在位倾斜角度 -45o - 45o 可调
