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是一种用于探测薄膜厚度、光学常数以及材料微结构的光学测量设备。由于并不与样品接触,对样品没有破坏且不需要真空。可测的材料包括:半导体、电介质、聚合物、有机物、金属、多层膜物质。可以应用于半导体、通讯、数据存储、光学镀膜、平板显示器、科研、生物、医药等领域。
主要用于膜厚以及折射率、消光系数等光学常数的测量测量范围:190-2100nm测量薄膜厚度:小于10nm相位调制:50KHz PEM调制自动平台扫描成像