反应离子刻蚀T2

[ 基础信息 ]
生产国家 : 美国
制造厂商 : Trion
购置日期 : 2013-09-06
规格型号 : Trion T2
[ 分类信息 ]
设备类型 : 干法刻蚀, 反映离子刻蚀
设备编号 : H1306306
[ 联系信息 ]
联系人 : 徐红涛
存放地址 : 物理科研楼N407 刻蚀二区
联系电话 : 021-31243290
联系邮箱 : xuhongtao@fudan.edu.cn
[ 附加信息 ]
主要附件及配置 :

气体:Ar、O2、CF4、SF6、CHF3

主要功能及特色 :

主要用于介质材料,光刻胶,二维材料的干法刻蚀

主要规格及技术指标 :

样品最大尺寸:300mm
射频源:600W,13.56MHz

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[ 开放机时安排 ]
[ 参考收费标准 ]