等离子增强化学气相沉积
[ 基础信息 ]
生产国家 : 英国
制造厂商 : Oxford
购置日期 : 2012-12-01
规格型号 : PlasmaPro System 100
[ 分类信息 ]
设备类型 : 薄膜沉积, 化学气相沉积
设备编号 :
[ 联系信息 ]
联系人 : 徐红涛
存放地址 : 物理科研楼N407
联系电话 : 021-31243290
联系邮箱 : xuhongtao@fudan.edu.cn
[ 附加信息 ]
主要附件及配置 :
气体：SiH4、NH3、N2O、N2
主要功能及特色 :
用于沉积SiO2和SiN薄膜。沉积温度300-400℃，沉积SiO2的速率大于40 nm/min，沉积SiN的速率大于10 nm/min
主要规格及技术指标 :
最大放样品：8英寸及以下
薄膜匀胶性：±5%
